RESERCH & DEVELOPMENT

電解技術

当社はフッ酸電解技術の工業化を1970年に国内で初めて確立して以来、半世紀以上に及ぶ経験と実績により、世界トップクラスのフッ素ガス製造能力を保有するまでになりました。
フッ素ガスは無水フッ酸の電気分解によって得られ、高純度のフッ素を効率よく大量に発生させるフッ酸電解技術をコア技術として蓄積し、発展させています。

電解フッ素化技術

当社は無水フッ酸を主体とする電解液中で各種フッ素化合物を合成する独自技術を培ってきました。
ユニークかつクリーンなプロセスである電解フッ素化法によって様々なフッ素化合物の開発を進めています。

フッ素化技術

フッ素およびフッ素系特殊ガスを高品質なフッ素化剤として利用し、有用な含フッ素化合物を開発しています。

フッ素化技術

F2ガスによるフッ素化

フッ素（F2）ガスは反応性が高く危険なフッ素化剤ですが、当社ではラボ～実生産スケールで安全に取扱う技術を駆使することにより、有機化合物などを直接フッ素化することができます。

特殊ガス等によるフッ素化

各種フッ素系特殊ガスをフッ素化原料として、ラボ～実生産スケールで選択的なフッ素化反応を実施可能です。
フッ素化に利用できるガス等として、

  • SF4（四フッ化硫黄）
  • COF2（フッ化カルボニル）
  • SiF4（四フッ化ケイ素）
  • ClF3（三フッ化塩素）
  • IF5（五フッ化ヨウ素）

など、多様に取り揃えております。
まずはお気軽にご相談ください。小スケールからバルク製造まで対応可能です。

SF4による脱酸素的フッ素化例

多くの基質に適用が可能です。

  • アルコールとの反応
    SF4による脱酸素的フッ素化例
  • カルボン酸との反応
    SF4による脱酸素的フッ素化例
  • ケトンとの反応
    SF4による脱酸素的フッ素化例

COF2によるトリフルオロメトキシ基の導入

脂肪族化合物に1potでトリフルオロメトキシ基が導入可能です。

COF2によるトリフルオロメトキシ基の導入
COF2によるトリフルオロメトキシ基の導入

COF2による含フッ素カーボネート類の合成

COF2とケトン類の反応により中間体を経て合成が可能です。

化合物例：下記のような各種フッ素化鎖状・環状カーボネートが合成可能です。

SiF4によるキラルジオール類の合成

反応基質の立体を保持してフッ素化が可能です。
用途：医農薬中間体・電子材料等
特許第4448346号

化合物例：下記のような鎖状・環状フッ素化アルコールの合成が可能です。

ファインケミカル製品

当社の特徴であるフッ素化技術を活用し、含フッ素有機化合物を中心にハロゲン系化合物を取り揃えております。また、長年の研究で培ってきた独自の有機合成技術を活用し、特徴的な構造を持つ高付加価値化合物の開発も行っています。下記リストに記載のない化合物につきましても、お気軽にお問い合わせください。

用途例

  • 医農薬中間体
  • 電池材料
  • 電子材料
  • 液晶材料

ラインナップ（フッ素系化合物リスト）

No. 化合物名 構造式 分子量(M.W.)
1 2-フルオロエチルアミン塩酸塩
2-Fluoroethylamine Hydrichloride		 2-フルオロエチルアミン塩酸塩 99.54
2 ブロモジフルオロ酢酸エチル
Ethyl bromodifluoroacetate		 ブロモジフルオロ酢酸エチル 202.98
3 メチル 3,3,3-トリフルオロプロピオネート
Methyl 3,3,3-trifluoropropionate		 メチル 3,3,3-トリフルオロプロピオネート 142.08
4 トリスペンタフルオロフェニルボラン
Tris(pentafluorophenyl)borane		 トリスペンタフルオロフェニルボラン 511.98

研究開発方針

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