PRODUCT特殊ガス製品
初めての技術、
トップクラスの生産能力。
関東電化が精密化学品の進化を
リードします。
関東電化は1970年にフッ酸電解技術を国内で初めて確立して以来、半世紀以上に及ぶ経験と実績により、世界トップクラスのフッ素ガス製造能力を保有するまでになりました。
当社のフッ素系製品は、それぞれ独立したプラントでフッ素ガスと原料を直接反応させて製造しているのが特徴であります。また、クラス1000のクリーン充填設備を完備しており、パーティクルの少ない高純度の製品を供給しています。とくに半導体の需要が急速な高まりを見せた90年代半ば以降、半導体用エッチングガスの四フッ化炭素、ヘキサフルオロ-1,3-ブタジエン、クリーニングガスの三フッ化窒素、六フッ化エタン、三フッ化塩素、配線用ガスの六フッ化タングステン等、数多くのフッ素系特殊ガスならびにこれらのガスの除害装置を、半導体産業に提供してまいりました。また、変電設備に使われる絶縁ガス六フッ化硫黄や、光ファイバー向けの四フッ化ケイ素等、半導体製造用の素材以外にも多彩で高品質なフッ素系特殊ガス製品を提供しています。
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- 半導体
- 半導体の製造において、エッチング、クリーニングに各種フッ素系ガスが使用されています。
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- 液晶、液晶パネル
- 液晶材料に有機フッ素化合物が使用されています。また、液晶パネルの製造において、エッチング、クリーニングに各種フッ素系ガスが使用されています。
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- 光ファイバー
- 四フッ化ケイ素を使用しています。
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- 大容量変電設備
- 絶縁性能の高い六フッ化硫黄を使用して、設備をコンパクトにしています。
製品のラインナップ
- 四フッ化炭素(CF4)半導体・FPD製造用エッチング/クリーニングガス
- モノフルオロメタン(CH3F)半導体製造用エッチングガス
- ジフルオロメタン(CH2F2)半導体製造用エッチングガス
- トリフルオロメタン(CHF3)半導体・FPD製造用エッチングガス
- 六フッ化エタン(C2F6)半導体製造用クリーニングガス
- 八フッ化プロパン(C3F8)半導体製造用クリーニングガス
- 八フッ化シクロブタン(C4F8)半導体・FPD製造用エッチング/クリーニングガス
- ヘキサフルオロ-1,3-ブタジエン(C4F6)半導体製造用エッチングガス
- 六フッ化硫黄(SF6)半導体・FPD製造用エッチングガス, 電気設備用絶縁ガス
- 四フッ化ケイ素(SiF4)Si含有膜成膜材料, 光ファイバー用配線材料
- 三フッ化窒素(NF3)半導体・FPD製造用クリーニングガス
- 三フッ化塩素(ClF3)半導体製造用クリーニングガス
- 硫化カルボニル(COS)半導体製造用エッチングガス
- 六フッ化タングステン(WF6)タングステン配線材料
- フッ素混合ガス(F2-mix)半導体製造用クリーニングガス, エキシマレーザー用