関東電化は1970年にフッ酸電解技術を国内で初めて確立して以来、35年に及ぶ経験と実績により、世界トップクラスのフッ素ガス製造能力を保有するまでになりました。 当社のフッ素系製品は、それぞれ独立したプラントでフッ素ガスと原料を直接反応させて製造しているのが特徴であります。また、クラス1000のクリーン充填設備を完備しており、パーティクルの少ない高純度の製品を供給しています。とくに半導体の需要が急速な高まりを見せた90年代半ば以降、半導体用エッチングガスの四フッ化炭素、ヘキサフルオロ-1,3-ブタジエン、クリーニングガスの三フッ化窒素、六フッ化エタン、三フッ化塩素、配線用ガスの六フッ化タングステン等、数多くのフッ素系特殊ガスならびにこれらのガスの除害装置を、半導体産業に提供してまいりました。また、変電設備に使われる絶縁ガス六フッ化硫黄や、光ファイバー向けの四フッ化ケイ素、携帯電話等に使われているリチウムイオン二次電池材料の六フッ化リン酸リチウム等、半導体製造用の素材以外にも多彩で高品質なフッ素系化学製品を提供しています。 半導体の製造において、エッチング、クリーニングに各種フッ素系ガスが使用されています。 液晶材料に有機フッ素化合物が使用されています。また、液晶パネルの製造において、エッチング、クリーニングに各種フッ素系ガスが使用されています。 電解液の材料に六フッ化リン酸リチウムを使用しています。 四フッ化ケイ素を使用しています。 絶縁性能の高い六フッ化硫黄を使用して、設備をコンパクトにしています。 製品名 主な用途 四フッ化炭素 ICエッチング、IC製造装置クリーニング ジフルオロメタン ICエッチング トリフルオロメタン ICエッチング 六フッ化エタン ICエッチング、IC製造装置クリーニング 八フッ化プロパン ICエッチング、IC製造装置クリーニング 八フッ化シクロブタン ICエッチング、IC製造装置クリーニング ヘキサフルオロ-1,3-ブタジエン ICエッチング 六フッ化硫黄 電気絶縁材、ICエッチング、液晶製造装置クリーニング 四フッ化ケイ素 光ファイバーの製造、ICエッチング、IC絶縁膜 三フッ化窒素 ICエッチング、IC製造装置クリーニング、液晶製造装置クリーニング 三フッ化塩素 IC製造装置クリーニング 五フッ化ヨウ素 フッ素系界面活性剤原料 六フッ化タングステン W-CVD素材 六フッ化リン酸リチウム リチウムイオン二次電池の材料 フルオロエチレンカーボネート 電池の添加剤 有機フッ素化合物 液晶中間体、医農薬中間体 エフトールシリーズ 排ガス処理装置