関東電化は1970年にフッ酸電解技術を国内で初めて確立して以来、40年に及ぶ経験と実績により、世界トップクラスのフッ素ガス製造能力を保有するまでになりました。 当社のフッ素系製品は、それぞれ独立したプラントでフッ素ガスと原料を直接反応させて製造しているのが特徴であります。また、クラス1000のクリーン充填設備を完備しており、パーティクルの少ない高純度の製品を供給しています。とくに半導体の需要が急速な高まりを見せた90年代半ば以降、半導体用エッチングガスの四フッ化炭素、ヘキサフルオロ-1,3-ブタジエン、クリーニングガスの三フッ化窒素、六フッ化エタン、三フッ化塩素、配線用ガスの六フッ化タングステン等、数多くのフッ素系特殊ガスならびにこれらのガスの除害装置を、半導体産業に提供してまいりました。また、変電設備に使われる絶縁ガス六フッ化硫黄や、光ファイバー向けの四フッ化ケイ素等、半導体製造用の素材以外にも多彩で高品質なフッ素系特殊ガス製品を提供しています。 半導体の製造において、エッチング、クリーニングに各種フッ素系ガスが使用されています。 液晶材料に有機フッ素化合物が使用されています。また、液晶パネルの製造において、エッチング、クリーニングに各種フッ素系ガスが使用されています。 四フッ化ケイ素を使用しています。 絶縁性能の高い六フッ化硫黄を使用して、設備をコンパクトにしています。 製品名 主な用途 四フッ化炭素 半導体エッチング、半導体製造装置クリーニング ジフルオロメタン 半導体エッチング トリフルオロメタン 半導体エッチング 六フッ化エタン 半導体エッチング、半導体製造装置クリーニング 八フッ化プロパン 半導体エッチング、半導体製造装置クリーニング 八フッ化シクロブタン 半導体エッチング、半導体製造装置クリーニング ヘキサフルオロ-1,3-ブタジエン 半導体エッチング 六フッ化硫黄 電気絶縁材、半導体エッチング、液晶製造装置クリーニング 四フッ化ケイ素 光ファイバーの製造、半導体エッチング、半導体絶縁膜 三フッ化窒素 半導体エッチング、半導体製造装置クリーニング、液晶製造装置クリーニング 三フッ化塩素 半導体製造装置クリーニング モノフルオロメタン 半導体エッチング フッ化カルボニル 半導体製造装置クリーニング 硫化カルボニル 半導体エッチング 五フッ化ヨウ素 フッ素系界面活性剤原料 六フッ化タングステン W-CVD素材