関東電化工業株式会社KANTO DENKA KOGYO
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特殊ガス製品
初めての技術と、トップクラスの生産能力。関東電化が精密化学品の進化をリードします。
関東電化は1970年にフッ酸電解技術を国内で初めて確立して以来、40年に及ぶ経験と実績により、世界トップクラスのフッ素ガス製造能力を保有するまでになりました。
当社のフッ素系製品は、それぞれ独立したプラントでフッ素ガスと原料を直接反応させて製造しているのが特徴であります。また、クラス1000のクリーン充填設備を完備しており、パーティクルの少ない高純度の製品を供給しています。とくに半導体の需要が急速な高まりを見せた90年代半ば以降、半導体用エッチングガスの四フッ化炭素、ヘキサフルオロ-1,3-ブタジエン、クリーニングガスの三フッ化窒素、六フッ化エタン、三フッ化塩素、配線用ガスの六フッ化タングステン等、数多くのフッ素系特殊ガスならびにこれらのガスの除害装置を、半導体産業に提供してまいりました。また、変電設備に使われる絶縁ガス六フッ化硫黄や、光ファイバー向けの四フッ化ケイ素等、半導体製造用の素材以外にも多彩で高品質なフッ素系特殊ガス製品を提供しています。
半導体
半導体の製造において、エッチング、クリーニングに各種フッ素系ガスが使用されています。
液晶、液晶パネル
液晶材料に有機フッ素化合物が使用されています。また、液晶パネルの製造において、エッチング、クリーニングに各種フッ素系ガスが使用されています。
光ファイバー
四フッ化ケイ素を使用しています。
大容量変電設備
絶縁性能の高い六フッ化硫黄を使用して、設備をコンパクトにしています。
製品ラインアップ
製品名
主な用途
四フッ化炭素(CF4 半導体・FPD製造用エッチング/クリーニングガス
モノフルオロメタン(CH3F) 半導体製造用エッチングガス
ジフルオロメタン(CH2F2 半導体製造用エッチングガス
トリフルオロメタン(CHF3 半導体・FPD製造用エッチングガス
六フッ化エタン(C2F6 半導体製造用クリーニングガス
八フッ化プロパン(C3F8 半導体製造用クリーニングガス
八フッ化シクロブタン(C4F8 半導体・FPD製造用エッチング/クリーニングガス
ヘキサフルオロ-1,3-ブタジエン(C4F6 半導体製造用エッチングガス
六フッ化硫黄(SF6 半導体・FPD製造用エッチングガス, 電気設備用絶縁ガス
四フッ化ケイ素(SiF4 Si含有膜成膜材料, 光ファイバー用配線材料
三フッ化窒素(NF3 半導体・FPD製造用クリーニングガス
三フッ化塩素(ClF3 半導体製造用クリーニングガス
硫化カルボニル(COS) 半導体製造用エッチングガス
五フッ化ヨウ素(IF5 フッ素系界面活性剤原料
六フッ化タングステン(WF6 タングステン配線材料
フッ素混合ガス(F2-mix) 半導体製造用クリーニングガス, エキシマレーザー用
※詳細情報は各製品名をクリックしてください